三星联手美企提升3纳米良率以赶超台积电

发布: 2022-11-21 09:00 | 作者: MSCBSC | 来源: 移动通信网 | 字体: 小中大

三星电子已与美国公司Silicon Frontline Technology扩大合作，提高半导体晶片在生产过程中的良率，希望超车劲敌台积电。据悉，三星电子先进制程良率低迷，自5纳米制程一直存在良率问题，随着4纳米和3纳米，情况变得更糟，据传三星3纳米解决方案制程自量产以来，良率不超过20%，量产进度陷入瓶颈。

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